申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：114年 - 114 高等考試_二級_電子工程：積體電路技術#131604
科目：積體電路技術
年份：114年
排序：0

四、假設均使用正光阻製程，欲製作如圖所示之積體電路元件。則在盡可能使用最少光罩數目的情況下，設計所有需要的光罩示意圖（以斜線表示光罩上不透光區域，以空白表示透光區域）。並搭配所設計的光罩，由 p-Si 基底開始，依照製程順序列出所有必要的製程步驟，並加以說明。