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試題詳解

試卷：104年 - 教育部公立高中教甄-機械/模具/製圖/生物產業機電#21140 | 科目：教甄◆機械科/模具科/製圖科/生物產業機電/電腦機械製圖科

試卷資訊

試卷名稱：104年 - 教育部公立高中教甄-機械/模具/製圖/生物產業機電#21140

年份：104年

科目：教甄◆機械科/模具科/製圖科/生物產業機電/電腦機械製圖科

10.下列有關半導體材料與製程的敘述，何者有誤？
(A)砷化鎵(gallium arsenide)化合物半導體 具有發光能力，可以製造雷射及發光二極體的元件
(B)矽是一種優良絕緣體，可用做絕緣 與保護目的之用
(C)薄膜製作是將部分未被光阻保護的氮化矽層加以除去並留下所需的線 路圖
(D)蝕刻(Etching)若採用濕式技術，此法具有等向性(isotropic)，若採用乾式蝕刻具非 等向性向性。S
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詳解 (共 2 筆)

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