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試卷名稱：112年 - 112 高雄市市立高級中等學校聯合教師甄選試題：機械科#114477

年份：112年

科目：教甄◆機械科/模具科/製圖科/生物產業機電/電腦機械製圖科

17.有關半導體及其周邊產業的生產技術，下列敘述何者正確？
(A)化學機械拋光(CMP)技術可使用於晶圓表面拋光加工
(B)純矽是電的良導體，要加入其他雜質使其成為半導體
(C)光罩的作用是防止光阻曝光，並保護晶圓避免磨損
(D)微放電加工使用的電極無法細化，故不屬於微細製造的領域。

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B1 · 2025/11/12

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