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試題詳解

試卷：107年 - 107 教育部高中教師甄試 25-CA10電腦機械製圖科#68994 | 科目：教甄◆機械科/模具科/製圖科/生物產業機電/電腦機械製圖科

試卷資訊

試卷名稱：107年 - 107 教育部高中教師甄試 25-CA10電腦機械製圖科#68994

年份：107年

科目：教甄◆機械科/模具科/製圖科/生物產業機電/電腦機械製圖科

37. 下列有關半導體製程技術之敘述，何者不正確？
(A)矽為非導體，但摻雜砷或硼 之後，就會變成半導體
(B)半導體光學微影製程步驟：光阻塗佈→光阻曝光→光阻 顯影
(C) 蝕刻是將晶圓上未受光罩保護之光阻移除
(D)濕式蝕刻比乾式蝕刻容 易造成二氧化矽的過切問題。
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