4 高密度互連技術(HDI)之印刷電路板為使通/盲孔結構得以形成完全填 滿,電鍍液中常需額外添加有機及無機添加劑。下列有關添加劑的敘述, 何者不正確?
(A)氫離子(H+)在於增加電鍍時的導電性,降低鍍浴中的電阻值。避免電 阻值過高時,其相對的反應電位較高,容易造成添加劑的破壞、消耗及 其它副反應。在填充盲孔時一般採用低銅高酸來獲得較好的填充效果;
(B)光澤劑(brightener)在填充盲孔時具有加速銅離子還原於孔內的能力, 且能使電鍍銅膜具有光亮的效果;
(C)平整劑(leveler)帶有很強的正電性 N+,帶有很強的正電性,很容易吸附在鍍件表面電流密度較大處, 與 銅離子競爭,使銅離子在高電流處不易沉積,但又不影響低電流區的銅 沉積,使原本起伏 不平的表面變得更為平坦;
(D)抑制劑(suppressor) 能 明顯加強電鍍銅鍍液陰極極化,抑制了電鍍銅的沉積