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試題詳解

試卷:108年 - 高雄市高中教師聯招甄選-電腦機械製圖科#76542 | 科目:教甄◆機械科/模具科/製圖科/生物產業機電/電腦機械製圖科

試卷資訊

試卷名稱:108年 - 高雄市高中教師聯招甄選-電腦機械製圖科#76542

年份:108年

科目:教甄◆機械科/模具科/製圖科/生物產業機電/電腦機械製圖科

5.有關半導體光顯微影製成步驟: A 光阻曝光、 B 光阻塗佈、C 光阻顯影, 下列製成順序何者為正確?
(A)BCA
(B)ABC
(C)CAB
(D)BAC。
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