申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：102年 - 102 專利商標審查特種考試_三等_電子工程：半導體製程#44432
科目：半導體製程
年份：102年
排序：0

四、

⑴對波長為 193 nm 的準分子雷射光學系統而言，若其具有數值孔徑 NA = 0.65，製程相依因子 k1 = 0.6 及 k2 = 0.5，以此光學系統作為曝光機台的理論解析度及聚焦深度各為多少值？（10 分）