申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：96年 - 96 專利商標審查特種考試_三等_電子工程、光電工程：半導體製程#49315
科目：半導體製程
年份：96年
排序：0

二、在矽晶圓（Si wafer）上形成二氧化矽（SiO₂）膜之製程方式一般有那些？各製程形成之二氧化矽（SiO2）膜品質有何不同？各應用在矽半導體元件之何處？（20 分）