阿摩線上測驗 登入

申論題資訊

試卷:99年 - 99 專利商標審查特種考試_三等_光電工程:半導體製程#52308
科目:半導體製程
年份:99年
排序:0

題組內容

五、

申論題內容

⑵請說明在什麼情況下需要使用氮化矽(Si3N4)?與二氧化矽(SiO2)相比,氮化 矽(Si3N4)有什麼缺點?(10 分)