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99年 - 99 專利商標審查特種考試_三等_光電工程:半導體製程#52308
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申論題
試卷:99年 - 99 專利商標審查特種考試_三等_光電工程:半導體製程#52308
科目:半導體製程
年份:99年
排序:0
申論題資訊
試卷:
99年 - 99 專利商標審查特種考試_三等_光電工程:半導體製程#52308
科目:
半導體製程
年份:
99年
排序:
0
題組內容
五、
申論題內容
⑵請說明在什麼情況下需要使用氮化矽(Si
3
N
4
)?與二氧化矽(SiO
2
)相比,氮化 矽(Si
3
N
4
)有什麼缺點?(10 分)