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積體電路技術
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103年 - 103 高等考試_二級_電子工程:積體電路技術#43082
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申論題
試卷:103年 - 103 高等考試_二級_電子工程:積體電路技術#43082
科目:積體電路技術
年份:103年
排序:0
申論題資訊
試卷:
103年 - 103 高等考試_二級_電子工程:積體電路技術#43082
科目:
積體電路技術
年份:
103年
排序:
0
題組內容
一、設一鋁銅矽(Al-Cu-Si)合金膜的電阻率(resistivity)為 3.2 μohm-cm,試問: (每小題 5 分,共 20 分)
申論題內容
⑶若將⑵所示之合金膜製成兩條平行線,並間隔以 1 μm 寬的 SiO
2
(SiO
2
的相對介 電係數(relative permittivity)為 3.9,真空中介電常數為 8.854 × 10
-14
F/cm),則其 對應之電容值(capacitance)為何?