申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：103年 - 103 高等考試_二級_電子工程：積體電路技術#43082
科目：積體電路技術
年份：103年
排序：0

二、

⑶試說明在投影式的光學蝕刻術（projection optical lithography）中，為何最小鑑別度（minimum resolution）和焦距深度（depth of focus）這兩個需求無法藉由使用較短波長的光子而同時得到最佳化？