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99年 - 99 專利商標審查特種考試_三等_光電工程:半導體製程#52308
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申論題
試卷:99年 - 99 專利商標審查特種考試_三等_光電工程:半導體製程#52308
科目:半導體製程
年份:99年
排序:0
申論題資訊
試卷:
99年 - 99 專利商標審查特種考試_三等_光電工程:半導體製程#52308
科目:
半導體製程
年份:
99年
排序:
0
題組內容
一、
申論題內容
⑴請說明矽晶體與砷化鎵晶體成長(Bulk crystal growth)方式的差異性。(10 分)