四、波長為 193 nm 的深紫外光光源一直使用到 7 nm 的製程，而後在 5 nm 以後的製程中才廣泛使用 13.5 nm 的極紫外光當作光源。請說明有那些解析度增強技術的組合使用，讓193 nm 的深紫外光光源能夠一直使用到 7 nm 的製程中。（25 分）

四、假設均使用正光阻製程，欲製作如圖所示之積體電路元件。則在盡可能使用最少光罩數目的情況下，設計所有需要的光罩示意圖（以斜線表示光罩上不透光區域，以空白表示透光區域）。並搭配所設計的光罩，由 p-Si 基底開始，依照製程順序列出所有必要的製程步驟，並加以說明。